PVD真空鍍膜技術(shù)發(fā)展動(dòng)向
(一)薄膜的多元化及服務(wù)的客制化
進(jìn)入21世紀(jì)的PVD技術(shù)與1990年代相比,已發(fā)生了極大變化,從單一的TiN、TiCN、TiAlN發(fā)展到現(xiàn)在的數(shù)十種鍍膜型態(tài),針對(duì)不同的切削加工應(yīng)用條件,可對(duì)薄膜成分、結(jié)構(gòu)進(jìn)行選擇,透過適當(dāng)?shù)闹苽浼夹g(shù),以獲取令人滿意的切削效果。例如在齒輪加工中,除了對(duì) zz覆膜刀具的使用壽命有嚴(yán)格要求外,如何保證齒輪的精度及表面質(zhì)量同樣至關(guān)重要,因此目前普遍采用的是復(fù)合膜層,即硬涂層+軟涂層,當(dāng)然對(duì)于不同的鍍膜廠家而言,達(dá)成此目的的制程方法不盡相同;而在高速銑削加工中,往往只采用硬質(zhì)涂層。此外客制化服務(wù)的概念初步形成,例如Platit公司的鍍膜設(shè)備采用了開放式工作模式,可針對(duì)不同的客戶隨時(shí)開發(fā)更適合的PVD真空鍍膜技術(shù)。
(二)高速及干式切削之鍍膜技術(shù)的開發(fā)
在高速加工或干式切削過程中,溫度成為影響刀具使用壽命的主要原因,因此提高薄膜的高溫性能、保證覆膜刀具的紅硬性成為近幾年P(guān)VD技術(shù)的開發(fā)重點(diǎn)。欲改進(jìn)氮鋁鈦膜層,提高薄膜中Al的含量是有效方法之一,因此出現(xiàn)了所謂的AlTiN鍍層(Al含量大于50%),應(yīng)該說隨著Al含量的增加(在一定范圍內(nèi)),薄膜的整體效能有所提升,但仍有一些關(guān)鍵技術(shù)有待解決:比如說,如何在生產(chǎn)過程中完成這種鍍膜,尤其當(dāng)Al含量超過65%時(shí),在這種膜層中如何控制AlN的晶體結(jié)構(gòu)等。從新的發(fā)展來看,各鍍膜業(yè)者已透過其他的薄膜技術(shù)解決了高速、高溫切削加工問題,如Balzers的AlCrN鍍膜、Platit的(nc-Ti1-xAlxN)/(αSi3N4) 鍍膜、CemeCon的TINALOX鍍膜、Metaplas的AlTiN-saturn鍍膜都具有優(yōu)異的高溫性能,并已成功應(yīng)用于高速、干式切削加工領(lǐng)域。
(三)膜層組織結(jié)構(gòu)之改善
目前在PVD市場(chǎng)中,陰極電弧離子鍍技術(shù)仍占主導(dǎo)地位,但與先前不同,無論哪一個(gè)采用陰極電弧離子鍍技術(shù)的公司,都試圖透過硬件的開發(fā)及制程的調(diào)整來改善膜層的組織結(jié)構(gòu),避免“液滴”和柱狀晶的產(chǎn)生。尤其是隨著奈米概念的出現(xiàn),致使陰極電弧薄膜涂層組織獲得根本的改善,采用該技術(shù)得到的膜層表面粗糙度Ra值已小于0.15μm,因此使得陰極電弧涂層的整體效能得以提高,并為市場(chǎng)所接受。