真空泵鍍膜是真空泵主要用途的一個關(guān)鍵層面，它是以真空設(shè)備為基本，運用物理學或有機化學方式，并消化吸收離子束、分子結(jié)構(gòu)束、電子束、等電子束、頻射和磁控等一系列新技術(shù)應(yīng)用，為科研和具體生產(chǎn)制造出示薄膜制取的一種新技術(shù)新工藝。簡易地說，在真空泵中把金屬材料、鋁合金或化學物質(zhì)開展揮發(fā)或磁控濺射，使其在被涂敷的物件（稱基鋼板、襯底或基體）上凝結(jié)并沉積的方式，稱之為真空泵鍍膜。

大家都知道，在一些原材料的表面上，要是鑲上一層薄膜，就能使原材料具備很多新的、優(yōu)良的物理學和有機化學特性。二十世紀七十年代，在物件表面上鍍膜的方式關(guān)鍵有電鍍法和化學鍍鎳法。前面一種是根據(jù)接電源，使鋰電池電解液電解法，被電解法的等離子噴涂到做為另一個電級的基體表面上，因而這類鍍膜的標準，基體務(wù)必是電的良導體，并且薄膜薄厚也無法操縱。后面一種是選用有機化學還原法，務(wù)必把膜材配置成水溶液，并能快速報名參加氧化反應(yīng)，這類鍍膜方式不但薄膜的融合抗壓強度差，并且鍍膜既不勻稱也不易控制，另外還會繼續(xù)造成很多的廢水，導致比較嚴重的環(huán)境污染。因而，這二種被大家稱作濕試鍍膜法的鍍膜加工工藝遭受了非常大的限定。

真空泵鍍膜則是相對性于所述的濕試鍍膜方式而發(fā)展趨勢起來的一種新式鍍膜技術(shù)性，一般 稱之為干試鍍膜技術(shù)性。

歸類

真空泵鍍膜技術(shù)性一般分成兩類，即物理學液相沉積（PVD真空鍍膜）技術(shù)性和有機化學液相沉積（CVD）技術(shù)性。

物理學液相沉積技術(shù)性就是指在真空泵標準下，運用各種各樣物理方法，將鍍料汽化成分子、分子結(jié)構(gòu)或使其離化作正離子，立即沉積到基體表面上的方式。制取硬質(zhì)的反映膜大多數(shù)以物理學液相沉積方式制取，它運用某類物理學全過程，如化學物質(zhì)的熱揮發(fā)，或遭受離子轟擊時化學物質(zhì)表面分子的磁控濺射等狀況，完成化學物質(zhì)分子從源化學物質(zhì)到薄膜的可控性遷移全過程。物理學液相沉積技術(shù)性具備膜/基結(jié)合性好、薄膜勻稱高密度、薄膜薄厚可操控性好、運用的濺射靶材普遍、磁控濺射范疇寬、可沉積厚膜、可制得成份平穩(wěn)的鋁合金膜和可重復性好等優(yōu)勢。另外，物理學液相沉積技術(shù)性因為其處理工藝溫度可操縱在500℃下列，因而可做為最后的工藝處理用以彈簧鋼和硬質(zhì)合金刀具類的薄膜數(shù)控刀片上。因為選用物理學液相沉積加工工藝可大大提高數(shù)控刀片的加工性，大家在爭相開發(fā)設(shè)計性能卓越、很高的可靠性機器設(shè)備的另外，也對其主要用途的拓展，尤其是在彈簧鋼、硬質(zhì)合金刀具和瓷器類數(shù)控刀片中的運用開展了更為深層次的科學研究。

有機化學液相沉積技術(shù)性是把帶有組成薄膜原素的氫氧化物汽體或化學物質(zhì)提供基體，依靠液相功效或基體表面上的化學變化，在基體上制成金屬材料或化學物質(zhì)薄膜的方式，關(guān)鍵包含過熱蒸汽有機化學液相沉積、底壓有機化學液相沉積和兼具CVD和PVD二者特性的低溫等離子有機化學液相沉積等。