(1)真空泵蒸鍍：將需鍍膜的基體清理后放進(jìn)鍍膜室，抽時(shí)間后將膜料加溫到高溫，使蒸汽做到約13.3Pa進(jìn)而蒸汽分子結(jié)構(gòu)飛到基體表面，凝固而成薄膜。

(2)負(fù)極磁控濺射鍍：將需鍍膜的基體放到負(fù)極正對(duì)面，把稀有氣體(如氬)進(jìn)入已抽時(shí)間的房間內(nèi)，維持氣體壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，隨后將負(fù)極接好2000V的直流穩(wěn)壓電源，便激起電弧放電，帶正電荷的氬正離子碰撞負(fù)極，使其射出去分子，磁控濺射出的分子根據(jù)可塑性氛圍沉積到基體上產(chǎn)生膜。

(3)有機(jī)化學(xué)液相沉積：根據(jù)分解反應(yīng)所選中的金屬化合物或有機(jī)物，得到沉積薄膜的全過(guò)程。

(4)等離子噴涂：本質(zhì)上等離子噴涂系真空泵蒸鍍和負(fù)極磁控濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼具二者的加工工藝特性