1. PVD的含意一PVD 是英語(yǔ)Physical Vapor Deposition的簡(jiǎn)稱，中文翻譯是“物理學(xué)液相堆積”，就是指在真空泵標(biāo)準(zhǔn)下，用物理學(xué)的方式 使原材料堆積在被鍍產(chǎn)品工件上的薄膜制取技術(shù)性。

2. PVD表層的鍍膜和PVD鍍膜設(shè)備- PVD(物理學(xué)液相堆積)表層的鍍膜技術(shù)性關(guān)鍵分成三類， 閃蒸罐表層的鍍膜、真空泵磁控濺射鍍和真空泵正離子表層的鍍膜。相匹配于PVD技術(shù)性的三個(gè)歸類，相對(duì)應(yīng)的真空電鍍機(jī)器設(shè)備也就會(huì)有真空泵蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空泵磁控濺射鍍膜設(shè)備和真空泵正離子鍍膜設(shè)備這三種。

PVD真空鍍膜是真空泵主要用途的一個(gè)關(guān)鍵層面，它是以真空設(shè)備為基本，運(yùn)用物理學(xué)或有機(jī)化學(xué)方式 ，并消化吸收離子束、分子結(jié)構(gòu)束、電子束、等電子束、頻射和磁控等一系列新技術(shù)應(yīng)用，為科研和具體生產(chǎn)制造出示薄膜制取的一種新技術(shù)新工藝。簡(jiǎn)易地說，在真空泵中把金屬材料、鋁合金或化學(xué)物質(zhì)開展揮發(fā)或磁控濺射，使其在被涂敷的物件（稱基鋼板、襯底或基材）上凝結(jié)并堆積的方式 ，稱之為真空電鍍。

真空電鍍技術(shù)性與濕試表層的鍍膜技術(shù)性相較為，具備以下優(yōu)勢(shì)：

(1)薄膜和基材選料普遍，薄膜薄厚可開展操縱，以制取具備各種各樣不一樣作用的多功能性薄膜。

(2)在真空泵標(biāo)準(zhǔn)下制取薄膜，自然環(huán)境清理，薄膜不容易遭受環(huán)境污染，因而可得到高密度性好、純凈度高和鍍層勻稱的薄膜。

(3)薄膜與基材融合抗壓強(qiáng)度好，薄膜堅(jiān)固。

(4)干試表層的鍍膜既不造成廢水，也無空氣污染。